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[ALD] PE-ALD system

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작성자 관리자 작성일16-05-16 16:02 조회727회 댓글0건

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Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition System (PEALD system)

Company : ASM
Model : MP1100
Usage : Dielectric material(SiO2, Al2O3, ZrO2) deposition
Characteristic : Higher growth rate
                       Lower process temperature
                       Applicable to various materials
                       (pure metals, metal nitrides)

담당자 : 김준래 (7168)

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