[ALD] PE-ALD system > Facility

본문 바로가기
사이트 내 전체검색


회원로그인

Facility

[ALD] PE-ALD system

페이지 정보

작성자 관리자 작성일16-05-16 16:02 조회606회 댓글0건

본문

Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition System (PEALD system)

Company : ASM
Model : MP1100
Usage : Dielectric material(SiO2, Al2O3, ZrO2) deposition
Characteristic : Higher growth rate
                       Lower process temperature
                       Applicable to various materials
                       (pure metals, metal nitrides)

담당자 : 김준래 (7168)

댓글목록

등록된 댓글이 없습니다.


접속자집계

오늘
3
어제
90
최대
164
전체
30,672

(08826) 서울시 관악구 관악로 1 서울대학교 30동 521~526호 박막재료연구실
(Tel) 02-880-7168, 02-880-7378 (FAX) 02-874-7626
Copyright © Thin Film Research Lab. All rights reserved.
상단으로

모바일 버전으로 보기