[CVD] CVD system for SiC epitaxy > Facility

본문 바로가기
사이트 내 전체검색


회원로그인

Facility

[CVD] CVD system for SiC epitaxy

페이지 정보

작성자 관리자 작성일16-05-16 16:02 조회374회 댓글0건

본문

Chemical Vapor Deposition System for SiC epitaxy

Company : Home-made
Model : Home-made
Usage : SiC epitaxial film growth
Characteristic : Low pressure CVD
                       High pressure CVD
                       RF-power(inductive) heating

담당자 : 김현우 (7168)

댓글목록

등록된 댓글이 없습니다.


접속자집계

오늘
31
어제
80
최대
164
전체
30,780

(08826) 서울시 관악구 관악로 1 서울대학교 30동 521~526호 박막재료연구실
(Tel) 02-880-7168, 02-880-7378 (FAX) 02-874-7626
Copyright © Thin Film Research Lab. All rights reserved.
상단으로

모바일 버전으로 보기