[2005] Sang Yeol Kang, "Improvements in Growth Behavior of CVD Ru Films on Film Substrates for Memory Capacitor Integration" > International Journal

본문 바로가기
사이트 내 전체검색


회원로그인

International Journal

[2005] Sang Yeol Kang, "Improvements in Growth Behavior of CVD Ru…

페이지 정보

작성자 관리자 작성일16-05-09 12:20 조회2,541회 댓글0건

첨부파일

본문

Sang Yeol Kang, Cheol Seong Hwang, and Hyeong Joon Kim

"Improvements in Growth Behavior of CVD Ru Films on Film Substrates for Memory Capacitor Integration"

Journal of The Electrochemical Society, 152 (1), C15-C19, 2005

댓글목록

등록된 댓글이 없습니다.


접속자집계

오늘
44
어제
60
최대
164
전체
52,032

(08826) 서울시 관악구 관악로 1 서울대학교 30동 521~526호 박막재료연구실
(Tel) 02-880-7168, 02-880-7378 (FAX) 02-874-7626
Copyright © Thin Film Research Lab. All rights reserved.
상단으로

모바일 버전으로 보기