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[2004] Chihoon Lee, "Comparison of the Electrical Properties of H…

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작성자 관리자 작성일16-05-09 12:19 조회3,914회 댓글0건

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Chihoon Lee, Cheol Seong Hwang, and Hyeong Joon Kim

"Comparison of the Electrical Properties of High-k Gate Dielectric (HfO2 and Al2O3) Films with Pt or n+-Polycrystalline-Silicon Gate"

Integrated Ferroelectrics, Vol. 67, pp. 49-57, 2004

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