[2004] Chihoon Lee, "Phosphorus ion implantation and POCl3 doping effects of n+-polycrystalline-silicon/high-k gate dielectric (HfO2 and Al2O3) films" > International Journal

본문 바로가기
사이트 내 전체검색


회원로그인

International Journal

[2004] Chihoon Lee, "Phosphorus ion implantation and POCl3 doping…

페이지 정보

작성자 관리자 작성일16-05-09 12:18 조회3,698회 댓글0건

첨부파일

본문

Chihoon Lee, Jihoon Choi, Moonju Cho, Doo Seok Jeong, Cheol Seong Hwang, and Hyeong Joon Kim

"Phosphorus ion implantation and POCl3 doping effects of  n+-polycrystalline-silicon/high-k gate dielectric (HfO2 and Al2O3) films"

Applied Physics Letters, 84 (15), 2868, 2004

댓글목록

등록된 댓글이 없습니다.


접속자집계

오늘
47
어제
55
최대
164
전체
51,858

(08826) 서울시 관악구 관악로 1 서울대학교 30동 521~526호 박막재료연구실
(Tel) 02-880-7168, 02-880-7378 (FAX) 02-874-7626
Copyright © Thin Film Research Lab. All rights reserved.
상단으로

모바일 버전으로 보기