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International Conference

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작성자 관리자 작성일16-05-10 01:51 조회766회 댓글0건

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Chihoon Lee, Sang Yong No, Da Il Eom, Cheol Seong Hwang, and Hyeong Joon Kim, "Dual High-k Gate Oxide Characteristics of Al2O3 films on Si (100) substrate", 206th Meeting of The Elctrochemical Society (ECS), October 3-8, 2004, Hawaii, USA

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