[2008] Jeong Hwan Kim, "Influence of low-pressure process and rapid thermal annealing treatment on the electrical property of Al2O3/SnO2 MIS capacitor" > International Conference

본문 바로가기
사이트 내 전체검색


회원로그인

International Conference

[2008] Jeong Hwan Kim, "Influence of low-pressure process and rap…

페이지 정보

작성자 관리자 작성일16-05-10 02:31 조회204회 댓글0건

첨부파일

본문

Jeong Hwan Kim, Tae Joo Park, Kwang Duk Na, Myung soo Huh, Bong Sop Yang, Hyeong Joon Kim and Cheol Seong Hwang
"Influence of low-pressure process and rapid thermal annealing treatment on the electrical property of Al2O3/SnO2 MIS capacitor"
2nd IS-TCOs, October 22 - 26, 2008, Crete, Greece

댓글목록

등록된 댓글이 없습니다.


접속자집계

오늘
46
어제
45
최대
164
전체
24,907

(08826) 서울시 관악구 관악로 1 서울대학교 30동 521~526호 박막재료연구실
(Tel) 02-880-7168, 02-880-7378 (FAX) 02-874-7626
Copyright © Thin Film Research Lab. All rights reserved.
상단으로

모바일 버전으로 보기