[2000] 강상열, "MOCVD법에 의한 Ru 박막의 증착 및 특성 분석" > Domestic Proceeding

본문 바로가기
사이트 내 전체검색


회원로그인

Domestic Proceeding

[2000] 강상열, "MOCVD법에 의한 Ru 박막의 증착 및 특성 분석"

페이지 정보

작성자 관리자 작성일16-05-11 10:02 조회269회 댓글0건

본문

강상열, 최국현, 이석규, 황철성, 김형준

"MOCVD법에 의한 Ru 박막의 증착 및 특성 분석"

제7회 한국반도체 학술대회 눈문집, pp. 347-348, 2000

댓글목록

등록된 댓글이 없습니다.


접속자집계

오늘
23
어제
96
최대
164
전체
33,846

(08826) 서울시 관악구 관악로 1 서울대학교 30동 521~526호 박막재료연구실
(Tel) 02-880-7168, 02-880-7378 (FAX) 02-874-7626
Copyright © Thin Film Research Lab. All rights reserved.
상단으로

모바일 버전으로 보기