[2009] 오명숙, "Ni/4H-SiC Field Plate Schottky 다이오드 제작 시 과도 식각에 의해 형성된 Nickel_Titanium 이중 금속 Schottky 접합 특성과 공정 개선 연구" > Domestic Journal

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[2009] 오명숙, "Ni/4H-SiC Field Plate Schottky 다이오드 제작 시 과도 식각에 의해 형…

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작성자 관리자 작성일16-05-10 03:02 조회1,778회 댓글0건

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오명숙, 이종호, 김대환, 문정현, 임정혁, 이도현, 김형준,
"Ni/4H-SiC Field Plate Schottky 다이오드 제작 시 과도 식각에 의해 형성된 Nickel_Titanium 이중 금속 Schottky 접합 특성과 공정 개선 연구",
Korean Journal of Materials Research, Vol. 19, No. 1, pp.28-32, 2009

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