[2015] 김성민, "외부 응력과 NBIS 조건에 따른 ZTO 산화물 반도체의 신뢰성 열화 정도 평가" > Domestic Conference

본문 바로가기
사이트 내 전체검색


회원로그인

Domestic Conference

[2015] 김성민, "외부 응력과 NBIS 조건에 따른 ZTO 산화물 반도체의 신뢰성 열화 정도 평가"

페이지 정보

작성자 관리자 작성일16-05-23 15:52 조회236회 댓글0건

첨부파일

본문

김성민, 김형준

"외부 응력과 NBIS 조건에 따른 ZTO 산화물 반도체의 신뢰성 열화 정도 평가"
(Reliability Analysis on ZTO TFT under Tensile Stress and NBIS(Negative Biased Illuminated Stress) Condition)

2015년 한국세라믹학회 춘계학술대회 및 총회, 알펜시아리조트, 4월 15일~17일, 2015

댓글목록

등록된 댓글이 없습니다.


접속자집계

오늘
46
어제
45
최대
164
전체
24,907

(08826) 서울시 관악구 관악로 1 서울대학교 30동 521~526호 박막재료연구실
(Tel) 02-880-7168, 02-880-7378 (FAX) 02-874-7626
Copyright © Thin Film Research Lab. All rights reserved.
상단으로

모바일 버전으로 보기